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激光技术赋能半导体制造论坛
时间:2026-09-09
地点:2号馆二楼2A
语言:中文

主办单位

中国国际光电博览会(CIOE中国光博会)

2026年,作为“十五五”规划的开局之年,也是我国半导体产业迈向自主可控、高端跃升的关键时期。激光技术与半导体制造的深度融合,不仅关乎单一工艺环节的优化,更关乎整个产业链的协同创新与竞争力重塑。目前,半导体产业正处于新一轮技术变革的关键节点。随着摩尔定律逐渐逼近物理极限,传统光刻与工艺微缩路径日益艰难,半导体制造正从“单纯追求线宽缩小”转向“功能集成与性能跃升”的多维创新。在这一转型过程中,激光技术凭借其非接触、高精度、低热损伤、材料适应性强等独特优势,正从半导体制造流程中的“辅助工具”跃升为“核心引擎”,深度赋能芯片制造的全链条。


在芯片制造前道环节,准分子激光退火、激光掺杂激活等技术已成为先进制程不可或缺的关键工艺,助力实现更低的电阻、更陡峭的结深与更优的器件性能。在晶圆检测与量测领域,超快激光与光学检测技术的融合,实现了纳米级缺陷的高通量识别,为良率提升提供了坚实保障。而在后道先进封装领域,激光技术的赋能作用尤为凸显。随着芯片从二维向三维堆叠演进,晶圆减薄、隐形切割、激光辅助键合、玻璃通孔(TGV)加工等激光微细加工技术,已成为实现高密度互连、低热预算与高可靠性的核心手段。激光技术正以其独特的精度与灵活性,支撑着Chiplet、异构集成等新兴封装架构的产业化落地。


本次“激光技术赋能半导体制造论坛旨在汇聚国内外激光技术、半导体工艺、先进封装及智能装备领域的产业领袖与科研院所高校专家,共同探讨激光技术在半导体制造中的最新突破、应用挑战与未来方向。

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