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CIOE光学真空镀膜大会(已结束)
时间:2023/09/07 全天
地点:1号馆馆内会议室
语言:中文
合作主办
中国光学学会光学制造技术专业委员会
CIOE中国国际光电博览会
复旦大学上海超精密光学制造工程技术研究中心
同济大学
承办机构
深圳贺戎博闻展览有限公司
光学薄膜是现代先进光电技术中的重要组成部分,其通过干涉光的透过率、波段、折射率等参数来修正光学产品自身材质所带来的天然不足,已成为大部分光学产品不可或缺的一道工艺。随着科学技术发展,光学薄膜所覆盖的应用场景越来越多,在消费电子、汽车电子、生物医疗等新兴应用领域都展示了其独特的价值。面对真空镀膜多元的应用市场,国内厂商也在持续追赶,不断加速国产镀膜设备替代化进程;镀膜技术的研究在提升制备能力,突破薄膜层数、提高薄膜性能之外,更加关注拓展应用场景,加强场景迭代能力。技术发展也从传统的蒸发、电子束热蒸发技术,相继发展出PECVD、ALD原子层沉积技术、磁控溅射技术等等,技术地位日益凸显。
2023年9月7日,CIOE光学真空镀膜大会将邀光学薄膜产业链上下游知名企业与专家学者,探讨光学镀膜材料、先进光学镀膜技术与应用方向、光学元器件的设计与制备、膜厚测试监控等话题,促进光学真空镀膜设备、薄膜工艺等领域的协同创新,进一步加速打造高端光学镀膜机。

大会议程

CIOE光学真空镀膜大会(已结束)
时间演讲题目演讲嘉宾
嘉宾主持:张锦龙 同济大学 教授
10:00-10:05主持人开场
10:05-10:25基于移动磁控溅射阴极的大口径反射镜高反射膜研究王笑夷 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 研究员
10:25-10:45探究世界的全新方式-用于增强现实的薄膜生产解决方案周统一 意发薄膜科技(上海)有限公司 销售经理
10:45-11:05红外光学薄膜的空间工程应用及其产业化刘保剑 中国科学院上海技术物理研究所 副研究员
11:05-11:25新一代光学镀膜技术:ALD原子层沉积叶国光 无锡邑文微电子科技股份有限公司 副总经理
11:25-11:45在PMMA基板表面通过电子束蒸镀方式形成光学薄膜的课题与对策谷口 明 日本电子株式会社 技术开发部部长 (中文演讲代理:朱鸣 营业部课长)
午餐休息
嘉宾主持:王占山 精密光学工程技术研究所/同济大学先进技术研究院 创始人/院长
14:00-14:05主持人开场
14:05-14:25光学薄膜优化设计研究进展张锦龙 同济大学 教授
14:25-14:45采用溅射和空间ALD技术的高精密光学镀膜设备Ronny Kleinhempel FHR Anlagenbau GmbH 光学事业部经理
14:45-15:05真空镀膜行业的真空系统配置发展趋势付鸣涛 埃地沃兹贸易(上海)有限公司 业务拓展经理
15:05-15:25超低反射减反射膜研制沈伟东 浙江大学光电学院 教授
15:25-15:45ALD技术助力光电产业升级庄明宇 光驰半导体技术(上海)有限公司 开发部部长
15:45-16:05旋转式空间原子层沉积:引领超快速高保形光学镀膜的新革命刘春亮 青岛四方思锐智能技术有限公司 销售总监
16:05-16:25光电子器件的复杂光学镀膜的大批量生产Dr. Stephan Mingels 布勒莱宝光学阿兹瑙有限公司 研发部门负责人
*具体议程以现场为准

嘉宾介绍

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