纳米压印技术自 1995 年诞生以来，凭借高分辨、低成本、高产能等优势，迅速成为学术界和产业界关注的焦点，被视为纳米光学的里程碑，更被美国麻省理工科技周刊评为 “将改变世界的十大新兴技术之一”，并被纳入国际半导体产业技术发展蓝图（ITRS）。

目前，纳米压印前沿技术不断涌现。佳能开发的纳米压印光刻设备，运用喷墨与照相技术，将树脂滴到半导体晶圆上，再用掩模压印制成电路，线宽可达 5 纳米甚至挑战 2 纳米，耗电量低、成本也更低，有望突破半导体制造瓶颈。模具制造技术也在不断革新。过去刚性模板精度高但仅适用于平面，如今弹性模量较高的 PDMS 材料制成的柔性模板，能贴合不同表面，解决了加工范围受限和脱模易脱落等问题。随着量子计算、生物医疗等领域发展，纳米压印技术也在拓展应用边界。