在光学系统向更轻、更薄、更智能迈进的当下，传统光学设计已难以满足尖端领域对极致性能与集成度的要求。以自由曲面和超构表面为代表的新一代光学元件，正成为突破成像、传感与显示系统瓶颈的关键。它们的实现，共同依赖于微纳制造与超精密加工两大基石技术的协同进化。

超构/纳米技术专场，将聚焦于超构光学这一颠覆性领域。通过在设计波长或亚波长尺度上精密排布纳米结构，超透镜与超表面能够以前所未有的方式操控光波的相位、振幅与偏振，从而有望用单层平面元件替代复杂的传统透镜组，实现光学系统在尺寸、重量与功能上的革命性突破。当前，该领域的前沿正朝着大口径成像、动态可调谐、多功能集成及规模化制造的方向快速发展，其核心驱动力在于不断精进的微纳制造技术。

超精密加工专场，则直面将先进设计转化为高性能实体的终极制造挑战。本专场核心聚焦于实现光学自由曲面的超精密加工设备、设计制造与检测技术。现代超精密加工设备能力已能实现纳米级（如<15纳米）的形状精度与0.1微米的定位精度，并配合超高速主轴，为复杂面形的直接金刚石车削等高难度工艺提供了可能。在此设备基础上，自由曲面的设计与制造技术打破了旋转对称的束缚，通过先进的伺服车削与智能补偿算法，能够在多种材料上实现提升系统性能、缩小体积的最优面形。为确保这一极限制造精度，与之匹配的检测技术体系同样至关重要，它融合了高精度轮廓扫描、纳米级光学干涉测量以及跨尺度的数据融合方案，构成了从局部到整体、从接触式到非接触式的全面质量验证闭环。

探索未来发展方向，2026年9月10日“超精微/纳米光学制造技术论坛”将邀请超构/纳米、超精密加工等产业链上下游的知名企业代表、专家学者齐聚一堂，分享在材料、设计、制造等方面的最新研究成果与前沿技术进展，深入探讨在各应用领域中面临的挑战与解决方案，共绘微/纳米光学制造技术的未来蓝图。