主办单位
中国国际光电博览会(CIOE中国光博会)
清华大学
复旦大学上海超精密光学制造工程技术研究中心
合作主办
同济大学
光学薄膜作为在基片上沉积介质或金属层以精确调控光波特性的核心技术,其价值日益凸显。如今,光学薄膜的应用已从传统的光学仪器与显示领域,扩展至消费电子、太阳能、医疗诊断、传感器及前沿的智能硬件等多个关键产业。
当前,光学薄膜作为支撑变革的关键材料,正向着更高性能、柔性化和智能化方向发展,以满足智能设备不断升级的需求。例如,在消费电子领域,光学薄膜是实现AR/VR设备、折叠屏手机等产品小型化与高性能不可或缺的一环。在激光与先进制造领域,科研人员持续攻关,致力于提升薄膜的极限性能,如在特定波长下将关键光学元件的激光损伤阈值提升至新的高度,这为高功率红外激光系统的稳定运行提供了保障。与此同时,光学薄膜的国产化进程不断加速,本土企业在反射膜、扩散膜等产品上已取得显著进步,并正在向更高附加值的产业链环节突破。
为探讨高性能光学薄膜的设计、制备与应用,促进产业链协同创新,2026年9月10日,“CIOE光学真空镀膜大会”将邀光学薄膜产业链上下游知名企业与专家学者,探讨,围绕先进薄膜设计与工艺(如原子层沉积)、膜层精密测量与控制、新型镀膜设备开发以及高端产品的国产化替代路径等核心议题展开深度交流,共同推动光学薄膜技术向更高品质、更广泛应用的方向发展。
| 时间 | 演讲题目 | 演讲嘉宾 |
|---|---|---|
| 10:00-10:05 | 会议开场 | |
| 10:05-10:25 | 主题待定 | 专家待定 |
| 10:25-10:45 | 主题待定 | 百思真空 |
| 10:45-11:05 | 主题待定 | 布勒莱宝 |
| 11:05-11:25 | 主题待定 | 日本电子 |
| 11:25-11:45 | 物理气相外延镀膜技术解决硅光芯片的痛点 | 奥普泰克(成都)有限公司 |
| 午休 | ||
| 14:00-14:20 | 主题待定 | 专家待定 |
| 14:20-14:40 | 主题待定 | 四方思锐 |
| 14:40-15:00 | 主题待定 | 卡尔蔡思 |
| 15:00-15:20 | 主题待定 | 海镨赢真 |
| 15:20-15:40 | 主题待定 | 企业待定 |
| 15:40-16:00 | 主题待定 | 爱发科 |
| 16:00-17:00 | Happy Hour | |